Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorЧухраев И. В.
dc.coverage.spatialподзатворные диэлектрики
dc.coverage.spatialоперативное управление топологическим процессом
dc.coverage.spatialкачество технологической операции
dc.coverage.spatialкачество подзатворного диэлектрика
dc.coverage.spatialиспытания в сильных электрических полях
dc.coverage.spatialиспытания подзатворного диэлектрика
dc.coverage.spatialтопологические процессы получения подзатворного диэлектрика
dc.creatorЧухраев И. В.
dc.date2005
dc.date.accessioned2025-08-22T12:09:13Z-
dc.date.available2025-08-22T12:09:13Z-
dc.date.issued2005
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\487817
dc.identifier.citationЧухраев, И. В. Методические основы оперативного управления топологическим процессом получения подзатворного диэлектрика МДП микросхем / И. В. Чухраев // Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф., 12-13 мая 2005 г. / М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; под ред. И. Г. Мироненко, М. Н. Пиганова. - Самаpа : СГАУ, 2005. - С. 73-75.
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/6814-
dc.languagerus
dc.sourceАктуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф., 12-13 мая 2005 г. - Текст : электронный
dc.subjectподзатворные диэлектрики
dc.subjectоперативное управление топологическим процессом
dc.subjectкачество технологической операции
dc.subjectкачество подзатворного диэлектрика
dc.subjectиспытания в сильных электрических полях
dc.subjectиспытания подзатворного диэлектрика
dc.subjectтопологические процессы получения подзатворного диэлектрика
dc.titleМетодические основы оперативного управления топологическим процессом получения подзатворного диэлектрика МДП микросхем
dc.typeText
dc.citation.epage75
dc.citation.spage73
local.contributor.authorЧухраев И. В.
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Metodicheskie-osnovy-operativnogo-upravleniya-topologicheskim-processom-polucheniya-podzatvornogo-dielektrika-MDP-mikroshem-99420
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Metodicheskie-osnovy-operativnogo-upravleniya-topologicheskim-processom-polucheniya-podzatvornogo-dielektrika-MDP-mikroshem-99420
Appears in Collections:Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций

Files in This Item:
File SizeFormat 
Стр.-73-75.pdf153.57 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.