Исследование параметров сухого изотропного травления кремния

Abstract

Объектом исследования является реактивно-ионное травление кремниячерез мягкие маски на основе фоторезистов марок ФП-3520 и ФП-051-КИ.Цель работы – экспериментально определить зависимость скоростисухого изотропного травления кремния от параметров процесса травления.В результате работы был произведен обзор литературы, а именнометодов литографии, травления, измерения глубины травления. Былипроизведены литографические процессы, травление кремния через маскиреактивно-ионным методом. Проведен анализ полученных данных. Былиисследованы параметры сухого изотропного травления кремния.Практическая ценность работы заключается в возможности дальнейшейоптимизации параметров реактивно-ионного процесса при измененииглобальных параметров: давление в камере, ICP мощность, процент открытойплощади, температура подложки; параметров шага травления: расход SF 6 ,напряжение смещения, время травления и параметров осаждения: расход C 4 F 8 ,напряжение смещения, время осаждения.