Samara University Repository
Welcome!
| Title: | Моделирование процесса осаждения тонких металлических пленок на диэлектрическое основание |
| Authors: | Егоров Е.В. Архипов А. В. Лофицкий И. В. |
| Keywords: | вероятностный клеточный автомат (ВКА) диэлектрическое основание компьютерное моделирование осаждение тонких металлических пленок рост тонких пленок технологические процессы |
| Issue Date: | 2016 |
| Citation: | Егоров, Е.В. Моделирование процесса осаждения тонких металлических пленок на диэлектрическое основание : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / Е. В. Егоров ; рук. работы А. В. Архипов; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т электроники и приборостроения,. - Самара, 2016. - on-line |
| Abstract: | В работе рассматривается компьютерное моделирование управляемого технологического процесса роста тонких пленок алюминия, заданной структуры, на диэлектрической подложке. Показана целесообразность использования метода вероятностного клеточного автомата для моделирования.Оценены вероятности протекания элементарных физико-химических процессов. Разработана физическая модель роста и описаны основные механизмы процесса формирования тонких пленок алюминия. Разработаны некоторые программные продукты, описывающие процесс роста тонкопленочной металлизации интегральных микросхем в условиях стандартного процесса осаждения с использованием метода вероятностного клеточного автомата. |
| URI: | http://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/50147 |
| Appears in Collections: | Выпускные квалификационные работы |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| Егоров_Евгений_Викторович_Моделирование_процесса_осаждения_тонких.pdf | 855.25 kB | Adobe PDF | View/Open Request a copy |
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.