Оптимизация технологии электронной литографии для изготовления шаблона на основе металлических пленок

Abstract

В данной работе рассматриваются вопросы, связанные с отработкой процесса электронно-лучевой литографии и создания шаблона на основе металлической пленки.Цель работы – оптимизировать параметры процесса электронно-лучевой литографии и на основании проведенного исследования изготовить шаблон на основе металлической пленки, подобрав оптимальный материал подложки, резист и время проявления.Исследованы основные процессы электронной литографии, ее аппаратное обеспечение и проблемы, возникающие в процессе создания структур. Оптимизирован процесс электронной литографии для нанесения рисунка на слой резиста ПММА.Разработана тестовая структура на алюминиевой пленке, изготовленной на подложке из боросиликатного стекла. Подобран позитивный резист для проведения электронно-лучевой литографии. Определено оптимальное время проявления при данной толщине резиста.