1. Репозиторий Самарского национального исследовательского университета имени академика С.П. Королёва
  2. 05. Выпускные квалификационные работы
  3. Выпускные квалификационные работы
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКрасавина Е. И.
dc.contributor.authorТукмаков К. Н.
dc.contributor.authorЛофицкий И. В.
dc.coverage.spatialэлектронно-лучевая литография
dc.coverage.spatialэкспонирование
dc.coverage.spatialмагнетронное распыление
dc.coverage.spatialпозитивный резист
dc.coverage.spatialдоза экспонирования
dc.coverage.spatialметаллическая пленка
dc.creatorКрасавина Е. И.
dc.date2017
dc.date.accessioned2025-11-27T12:34:42Z-
dc.date.available2025-11-27T12:34:42Z-
dc.date.issued2017
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20171215112658
dc.identifier.citationКрасавина, Е. И. Оптимизация технологии электронной литографии для изготовления шаблона на основе металлических пленок : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / Е. И. Красавина ; рук. работы К. Н. Тукмаков; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и э. - Самара, 2017. - on-line
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/47561-
dc.description.abstractВ данной работе рассматриваются вопросы, связанные с отработкой процесса электронно-лучевой литографии и создания шаблона на основе металлической пленки.Цель работы – оптимизировать параметры процесса электронно-лучевой литографии и на основании проведенного исследования изготовить шаблон на основе металлической пленки, подобрав оптимальный материал подложки, резист и время проявления.Исследованы основные процессы электронной литографии, ее аппаратное обеспечение и проблемы, возникающие в процессе создания структур. Оптимизирован процесс электронной литографии для нанесения рисунка на слой резиста ПММА.Разработана тестовая структура на алюминиевой пленке, изготовленной на подложке из боросиликатного стекла. Подобран позитивный резист для проведения электронно-лучевой литографии. Определено оптимальное время проявления при данной толщине резиста.
dc.subjectдоза экспонирования
dc.subjectмагнетронное распыление
dc.subjectметаллическая пленка
dc.subjectпозитивный резист
dc.subjectэкспонирование
dc.subjectэлектронно-лучевая литография
dc.subject.rugasnti47.13.11
dc.subject.udc621.3.049.77
dc.titleОптимизация технологии электронной литографии для изготовления шаблона на основе металлических пленок
dc.typeText
local.contributor.authorМинистерство образования и науки Российской Федерации
local.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
local.contributor.authorИнститут информатики
local.contributor.authorматематики и электроники
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/VKR/Optimizaciya-tehnologii-elektronnoi-litografii-dlya-izgotovleniya-shablona-na-osnove-metallicheskih-plenok-vyp-kvalifikac-rabota-po-spec-Elektronika-i-nanoelektronika-69354
Appears in Collections:Выпускные квалификационные работы

Files in This Item:
File SizeFormat 
Красавина_Елена_Ильинична_Оптимизация_технологии_электронной_литографии.pdf1.04 MBAdobe PDFView/Open    Request a copy
Show simple item record


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.