Title: Оптимизация параметров двухслойной пленки Si/Ti для термохимической лазерной записи дифракционных структур
Authors: Белоусов Д. А.
Куц Р. И.
Корольков В. П.
Keywords: антиотражающие покрытия
дифракционная оптика
многослойные пленки
термохимические технологии
тонкие пленки металлов
прямая лазерная запись
Issue Date: 2023
Citation: Белоусов, Д. А. Оптимизация параметров двухслойной пленки Si/Ti для термохимической лазерной записи дифракционных структур / Д. А. Белоусов, Р. И. Куц, В. П. Корольков // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 т. / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - Фил. Федер. науч.-исслед. центра "Кристаллография и фотоника" Рос. акад. наук. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2023Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2023. - С. 010482.
Abstract: В работе представлены результаты оптимизации толщины антиотражающего слоя Si, напыляемого на пленку Ti. Показано, что использованиеантиотражающего слоя кремния позволяет, помимо защиты металлической пленки от окисления в воздушной атмосфере, существенно повысить поглощение лазерного излучения на длинах волн 375 нм, 405 нм и 532 нм для задач термохимической лазерной записи на двухслойных пленках Si/Ti дифракционных структур.
URI: http://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12683
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File SizeFormat 
978-5-7883-1917-9_2023-010482.pdf283.87 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.