| Title: | Оптимизация параметров двухслойной пленки Si/Ti для термохимической лазерной записи дифракционных структур |
| Authors: | Белоусов Д. А. Куц Р. И. Корольков В. П. |
| Keywords: | антиотражающие покрытия дифракционная оптика многослойные пленки термохимические технологии тонкие пленки металлов прямая лазерная запись |
| Issue Date: | 2023 |
| Citation: | Белоусов, Д. А. Оптимизация параметров двухслойной пленки Si/Ti для термохимической лазерной записи дифракционных структур / Д. А. Белоусов, Р. И. Куц, В. П. Корольков // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 т. / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - Фил. Федер. науч.-исслед. центра "Кристаллография и фотоника" Рос. акад. наук. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2023Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2023. - С. 010482. |
| Abstract: | В работе представлены результаты оптимизации толщины антиотражающего слоя Si, напыляемого на пленку Ti. Показано, что использованиеантиотражающего слоя кремния позволяет, помимо защиты металлической пленки от окисления в воздушной атмосфере, существенно повысить поглощение лазерного излучения на длинах волн 375 нм, 405 нм и 532 нм для задач термохимической лазерной записи на двухслойных пленках Si/Ti дифракционных структур. |
| URI: | http://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12683 |
| Appears in Collections: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| 978-5-7883-1917-9_2023-010482.pdf | 283.87 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.