| Title: | Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии |
| Authors: | Сидоров Ф. А. Рогожин А. Е. |
| Keywords: | вязкость резиста длина цепи деполимеризации моделирование профиля линии неоднородное распределение молекулярной массы термостимулированная электронно-лучевая литография термическая деполимеризация формирование микрооптических структур |
| Issue Date: | 2022 |
| Citation: | Сидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. / М-во науки и образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2022. - С. 013492. |
| URI: | http://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12258 |
| Appears in Collections: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Files in This Item:
| File | Size | Format | |
|---|---|---|---|
| 978-5-7883-1789-2_2022-013492.pdf | 790.64 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.