Title: Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии
Authors: Сидоров Ф. А.
Рогожин А. Е.
Keywords: вязкость резиста
длина цепи деполимеризации
моделирование профиля линии
неоднородное распределение молекулярной массы
термостимулированная электронно-лучевая литография
термическая деполимеризация
формирование микрооптических структур
Issue Date: 2022
Citation: Сидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. / М-во науки и образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2022. - С. 013492.
URI: http://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12258
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File SizeFormat 
978-5-7883-1789-2_2022-013492.pdf790.64 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.