Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorСидоров Ф. А.
dc.contributor.authorРогожин А. Е.
dc.coverage.spatialвязкость резиста
dc.coverage.spatialдлина цепи деполимеризации
dc.coverage.spatialмоделирование профиля линии
dc.coverage.spatialнеоднородное распределение молекулярной массы
dc.coverage.spatialтермостимулированная электронно-лучевая литография
dc.coverage.spatialтермическая деполимеризация
dc.coverage.spatialформирование микрооптических структур
dc.creatorСидоров Ф. А., Рогожин А. Е.
dc.date2022
dc.date.accessioned2025-08-22T12:19:08Z-
dc.date.available2025-08-22T12:19:08Z-
dc.date.issued2022
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\491314
dc.identifier.citationСидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. / М-во науки и образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2022. - С. 013492.
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12258-
dc.languagerus
dc.relation.ispartofИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022) : сб. тр. по материалам VIII Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 23 - 27 мая) : в 5 т. -
dc.sourceИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2022). - Т. 1 : Компьютерная оптика и нанофотоника
dc.subjectвязкость резиста
dc.subjectдлина цепи деполимеризации
dc.subjectмоделирование профиля линии
dc.subjectнеоднородное распределение молекулярной массы
dc.subjectтермостимулированная электронно-лучевая литография
dc.subjectтермическая деполимеризация
dc.subjectформирование микрооптических структур
dc.titleМоделирование процесса формирования микрооптических структур методом термостимулированной электронно-лучевой литографии
dc.typeText
dc.citation.spage013492
dc.citation.volume1
local.contributor.authorСидоров Ф. А.
local.contributor.authorРогожин А. Е.
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Modelirovanie-processa-formirovaniya-mikroopticheskih-struktur-metodom-termostimulirovannoi-elektronnoluchevoi-litografii-100102
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File SizeFormat 
978-5-7883-1789-2_2022-013492.pdf790.64 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.