1. Репозиторий Самарского национального исследовательского университета имени академика С.П. Королёва
  2. 05. Выпускные квалификационные работы
  3. Выпускные квалификационные работы
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorКондратьев И. С.
dc.contributor.authorПаранин В. Д.
dc.coverage.spatialшаблон
dc.coverage.spatialэлектронная литография
dc.coverage.spatialтехнологические процессы
dc.coverage.spatialкремниевая подложка
dc.coverage.spatialметаллическая пленка
dc.coverage.spatialтвердые маски металлов
dc.coverage.spatialжидкостное травление
dc.coverage.spatialнапыление
dc.creatorКондратьев И. С.
dc.date2020
dc.date.accessioned2025-11-27T12:31:45Z-
dc.date.available2025-11-27T12:31:45Z-
dc.date.issued2020
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20200619155036
dc.identifier.citationКондратьев, И. С. Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / И. С. Кондратьев ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский ун-т), Ин-т информатики. - Самара, 2020. - on-line
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/55604-
dc.description.abstractВ выпускной квалификационной работе представлены результаты отимизизации технологического процесса изготовления бинарного маскирующего покрытия на основе тонких пленок металлов. В процессе работы были решены требуемые, для выполнения технического задания, задачи. В результате работы были получены параметры электронной литографии для экспонирования шаблона фотолитографии оптического и УФ диапозонов.
dc.subjectжидкостное травление
dc.subjectэлектронная литография
dc.subjectшаблон
dc.subjectтехнологические процессы
dc.subjectтвердые маски металлов
dc.subjectнапыление
dc.subjectкремниевая подложка
dc.subjectметаллическая пленка
dc.subject.rugasnti47.13.33
dc.subject.udc621.3.049.77
dc.titleОптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов
dc.typeText
local.contributor.authorматематики и электроники
local.contributor.authorИнститут информатики
local.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерации
local.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Vypusknye-kvalifikacionnye-raboty/Optimizaciya-parametrov-processa-elektronnoi-litografii-dlya-polucheniya-tverdyh-masok-metallov-vyp-kvalifikac-rabota-po-napravleniu-podgot-110304-Elektronika-i-nanoelektronika-uroven-bakalavriata-84645
Appears in Collections:Выпускные квалификационные работы

Files in This Item:
File SizeFormat 
Кондратьев_Илья_Сергеевич_Оптимизация_параметров_процесса_электронной.pdf1.51 MBAdobe PDFView/Open    Request a copy
Show simple item record


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.