Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием мягких масок

Abstract

Объектом исследования является реактивно-ионное травление кремниячерез мягкие маски на основе фоторезистов марки ФП-3520 и ФП-051 КИ.Цель работы – исследование особенности и селективности сухоготравления кремния с использованием мягких масок.Рассмотрены достоинства и недостатки предложенных марокфоторезистов. Исследовано влияние технологических параметровизотропного травления и Bosch-процесса на селективность мягких масок.В результате работы был произведен обзор литературы методовлитографии, сухого травления, измерения глубины травления и толщинымаски. Были произведены фотолитографические процессы, плазмохимическоетравление исследуемых мягких масок, выполнены измерения глубинытравления и толщины масок. Проведен анализ полученных результатов иполучены зависимости скоростей травления от параметров процесса. Такжебыли исследованы особенности предложенных маскирующих покрытий.Практическая ценность работы заключается в возможности дальнейшейоптимизации параметров Bosch-процесса при изменении глобаль