Методы оптимизации свойств МДП-структур с фторсодержащими диэлектриками

Abstract

Объектом исследования данной выпускной квалификационной работы являются МДП-структуры с диэлектрическим слоем фторида тулия. Целью работы является анализ методов оптимизации свойств МДП-структур и устройств на их основе и исследование изменения параметров германиевых МДП-структур с диэлектрическим слоем фторида тулия под действием электрических полей.В качестве экспериментальных образцов использовались фторсодержащие диэлектрические пленки на монокристаллических подложках германия, подвергнутые различной химической обработке. Измерены высокочастотные вольт-фарадные характеристики получившихся МДП-структур с последующей оценкой и анализом влияния воздействия электрических полей на деградацию их параметров.Установлено, что подбор травителя соответствующего состава для обработки поверхности германия можно использовать в качестве метода контроля зарядового состояния МДП – структуры.