Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorШурупова А. С.
dc.contributor.authorВолодкин Б. О.
dc.contributor.authorБратченко И. А.
dc.coverage.spatialиндуктивно-связанная плазма
dc.coverage.spatialподбор параметров
dc.coverage.spatialанизотропное плазмохимическое травление
dc.coverage.spatialBOSCH процессы
dc.creatorШурупова А. С.
dc.date2017
dc.date.accessioned2025-11-27T12:34:45Z-
dc.date.available2025-11-27T12:34:45Z-
dc.date.issued2017
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20171214160804
dc.identifier.citationШурупова, А. С. Глубокое анизотропное плазмохимическое травление кремниевой подложки : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / А. С. Шурупова ; рук. работы Б. О. Володкин; рец. И. А. Братченко ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и э. - Самара, 2017. - on-line
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/47582-
dc.description.abstractВ данной работе разбираются вопросы, связанные с методамианизотропного плазмохимического травления.Цель работы – разработка методов глубокого анизотропного травлениякремния.Задачи:1) Провести анализ существующих методов глубокого анизотропноготравления кремния.2) Разработать метод глубокого анизотропного травления кремния спомощью плазмохимического травления в газах C4F8 / SF6.3) Оптимизация параметров плазмохимического травления кремниядля получения необходимых параметров процесса: скорости травления,вертикальности стенок и латерального разрешения.
dc.subjectBOSCH процессы
dc.subjectподбор параметров
dc.subjectиндуктивно-связанная плазма
dc.subjectанизотропное плазмохимическое травление
dc.subject.rugasnti47.59.49
dc.subject.udc621.382
dc.titleГлубокое анизотропное плазмохимическое травление кремниевой подложки
dc.typeText
local.contributor.authorМинистерство образования и науки Российской Федерации
local.contributor.authorматематики и электроники
local.contributor.authorИнститут информатики
local.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/VKR/Glubokoe-anizotropnoe-plazmohimicheskoe-travlenie-kremnievoi-podlozhki-vyp-kvalifikac-rabota-po-spec-Elektronika-i-nanoelektronika-69334
Appears in Collections:Выпускные квалификационные работы



Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.