Оценка допустимых технологических погрешностей расположения оптических элементов для гиперспектрометра по схеме Оффнера

Abstract

Рассмотрено математическое моделирование технологических погрешностей расположения оптических элементов для спектрометра по схеме Оффнера. Проведены расчёты условных допусков и анализ их влияния на изображение в плоскости регистратора. С использованием метода статистического моделирования технологической погрешности проведена оценка адекватности выбранных характеристик точности. We considered Mathematical modeling of technological errors in the arrangement of optical elements for the spectrometer according to the Offner's scheme. Calculations of conditional tolerances and analysis of their effect on the image in the plane of the recorder were carried out. We carried out the adequacy of the selected accuracy characteristics with using the method of statistical modeling of technological error.