Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorСидоров Ф. А.
dc.contributor.authorРогожин А. Е.
dc.coverage.spatialметод Монте-Карло
dc.coverage.spatialмикроскопический алгоритм
dc.coverage.spatialматематическое моделирование
dc.coverage.spatialполиметилметакрилат
dc.coverage.spatialмодель дискретных потерь энергии
dc.coverage.spatialмодель идеальной цепи
dc.coverage.spatialэлектронно-лучевая литография
dc.creatorСидоров Ф. А., Рогожин А. Е.
dc.date2020
dc.date.accessioned2025-08-22T12:18:17Z-
dc.date.available2025-08-22T12:18:17Z-
dc.date.issued2020
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\441605
dc.identifier.citationСидоров, Ф. А. Новый микроскопический подход к моделированию процессов электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2020) : сб. тр. по материалам VI Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 26-29 мая) : в 4 т. - Тек / М-во науки и образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН. - 2020. - Т. 1. - С. 412-418
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/13076-
dc.languagerus
dc.relation.ispartofИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2020) : сб. тр. по материалам VI Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 26-29 мая) : в 4 т. - Тек
dc.sourceИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2020). - Т. 1 : Компьютерная оптика и нанофотоника
dc.subjectметод Монте-Карло
dc.subjectмикроскопический алгоритм
dc.subjectматематическое моделирование
dc.subjectполиметилметакрилат
dc.subjectмодель дискретных потерь энергии
dc.subjectмодель идеальной цепи
dc.subjectэлектронно-лучевая литография
dc.titleНовый микроскопический подход к моделированию процессов электронно-лучевой литографии
dc.typeText
dc.citation.epage418
dc.citation.spage412
dc.citation.volume1
local.contributor.authorСидоров Ф. А.
local.contributor.authorРогожин А. Е.
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Novyi-mikroskopicheskii-podhod-k-modelirovaniu-processov-elektronnoluchevoi-litografii-85178
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Novyi-mikroskopicheskii-podhod-k-modelirovaniu-processov-elektronnoluchevoi-litografii-85178
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File SizeFormat 
ИТНТ-2020_том 1-412-418.pdf459.71 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.