Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorСидоров Ф. А.
dc.contributor.authorРогожин А. Е.
dc.coverage.spatialсинусоидальные голографические решетки
dc.coverage.spatialтермическая деполимеризация
dc.coverage.spatialтермостимулированная электронно-лучевая литография
dc.creatorСидоров Ф. А., Рогожин А. Е.
dc.date2023
dc.date.accessioned2025-08-22T12:19:22Z-
dc.date.available2025-08-22T12:19:22Z-
dc.date.issued2023
dc.identifier.identifierRU\НТБ СГАУ\541492
dc.identifier.citationСидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 т. / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - Фил. Федер. науч.-исслед. центра "Кристаллография и фотоника" Рос. акад. наук. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2023Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2023. - С. 013262.
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/12783-
dc.description.abstractВ данной работе описывается применение метода термостимулированной электронно-лучевой литографии для получения синусоидальныхголографических решеток в полимерном резисте, а также приводятся результаты моделирования результирующей формы профиля решеток при различных параметрах экспонирования. На примере моделирования линий, получаемых данным методом в ПММА установлено, что при правильном подборе параметров экспонирования форма результирующего профиля с высокой точностью является синусоидальной.
dc.languagerus
dc.relation.ispartofИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6
dc.sourceИнформационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023). - Т. 1 : Компьютерная оптика и нанофотоника
dc.subjectсинусоидальные голографические решетки
dc.subjectтермическая деполимеризация
dc.subjectтермостимулированная электронно-лучевая литография
dc.titleМоделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии
dc.typeText
dc.citation.spage013262
dc.citation.volume1
local.contributor.authorСидоров Ф. А.
local.contributor.authorРогожин А. Е.
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Modelirovanie-processa-formirovaniya-sinusoidalnyh-golograficheskih-reshetok-metodom-termostimulirovannoi-elektronnoluchevoi-litografii-105617
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Modelirovanie-processa-formirovaniya-sinusoidalnyh-golograficheskih-reshetok-metodom-termostimulirovannoi-elektronnoluchevoi-litografii-105617
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File SizeFormat 
978-5-7883-1917-9_2023-013262.pdf554.74 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.