Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorБогданович, В.И.
dc.contributor.authorГиорбелидзе, М.Г.
dc.date2019-05
dc.date.accessioned2025-08-22T12:17:49Z-
dc.date.available2025-08-22T12:17:49Z-
dc.date.issued2019-05
dc.identifier.identifierDspace\SGAU\20190506\76345
dc.identifier.citationБогданович В.И. Расчет остаточных напряжений в плазменных покрытиях с учетом процесса наращивания / Богданович В.И., Гиорбелидзе М.Г. // Сборник трудов ИТНТ-2019 [Текст]: V междунар. конф. и молодеж. шк. "Информ. технологии и нанотехнологии": 21-24 мая: в 4 т. / Самар. нац.-исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем. обраб. изобр. РАН-фил. ФНИЦ "Кристаллография и фотоника" РАН; [под ред. В.А. Соболева]. – Самара: Новая техника, 2019. – Т. 3: Математическое моделирование физико-технических процессов и систем. - 2019. - С. 722-726.
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/jspui/handle/123456789/11526-
dc.description.abstractПредложен метод определения остаточных напряжений в многослойных покрытиях, полученных плазменным газотермическим напылением. Определены остаточные напряжения в трехслойном плазменном покрытии. Проведена оценка влияния мощности плазменной дуги на характер распределения остаточных напряжений в покрытии, подслое и подложке. A method for determining the residual stresses in multilayer coatings obtained by plasma thermal spraying is proposed. Residual stresses in a three-layer plasma coating were determined. The influence of the plasma arc power on the distribution of residual stresses in the coating, sublayer and substrate are estimated.
dc.languagerus
dc.publisherНовая техника
dc.titleРасчет остаточных напряжений в плазменных покрытиях с учетом процесса наращивания
dc.title.alternativeCalculation of residual stresses in plasma spray coatings taking into account the build-up process
dc.typeArticle
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Raschet-ostatochnyh-napryazhenii-v-plazmennyh-pokrytiyah-s-uchetom-processa-narashivaniya-76345
local.identifier.oldurihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Raschet-ostatochnyh-napryazhenii-v-plazmennyh-pokrytiyah-s-uchetom-processa-narashivaniya-76345
Appears in Collections:Информационные технологии и нанотехнологии

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
paper113.pdfОсновная статья323.53 kBAdobe PDFView/Open


Items in Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.