Оптимизация дифракционных оптических элементов для увеличения продольного разрешения микроскопов

Abstract

В работе исследуется возможность увеличения дифракционной эффективности фазовых масок, формирующих двухлепестковые световые поля. Такие световые поля можно использовать в микроскопии сверхвысокого разрешения с модификацией функции рассеяния точки для увеличения точности локализации излучающих объектов в продольном направлении. Тенденции, отмеченные при анализе численного моделирования, подтверждены экспериментально. The subject of the study is the possibility of increasing the diffraction efficiency of the phase elements that generate two-lobe light fields. The light fields of this type can be used for super resolution microscopy with the modification of the point spread function to improve the accuracy of the radiating objects localization in the longitudinal direction. The trends observed under modeling have been confirmed in our experiments