Отрывок: При использовании CVD необходимы надлежащие меры предосторожности. Вентиляция, очистка побочных продуктов и непрореагировавших соединений имеют важное значение в процессах CVD. CVD можно сгруппировать на основе энергии, используемой для запуска химической реакции. Источники энергии могут быть фотонными, лазерными или температурными (тепловыми). CVD охватыва...
Название : Методы нанесения тонких металлических плёнок
Авторы/Редакторы : Лобова Т. С.
Шишкина Д. А.
Ерендеев Ю. П.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики и кибернетики
Дата публикации : 2022
Библиографическое описание : Лобова, Т. С. Методы нанесения тонких металлических плёнок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Т. С. Лобова ; рук. работы Д. А. Шишкина ; нормоконтролер Ю. П. Ерендеев ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики и. - Самара, 2022. - 1 файл (931 Кб). - Текст : электронный
Аннотация : В данной выпускной квалификационной работе разработанамаршрутная карта нанесения антиотражающего покрытия на основе многослойной тонкопленочной структуры с помощью реактивного магнетронного распыления.Объектом исследования является кремниевая пластина, на поверхность которой нанесены слои диоксида кремния и хрома. Данное покрытие уменьшает коэффициент отражения. Требуемый коэффициент отражения неболее 20% при длине волны λ=700 нм. В процессе работы использована установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ. Исследованы оптические характеристики абсорбера – толщина пленки и коэффициент отражения при λ=700 нм с помощью спектроскопического рефлектометра и интерферометра белого света WLI-DMR.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Vypusknye-kvalifikacionnye-raboty/Metody-naneseniya-tonkih-metallicheskih-plenok-98714
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20220810101133
Ключевые слова: антиотражающее покрытие
вакуум
коэффициент отражения
магнетронное напыление
многослойные тонкопленочные структуры
реактивное распыление
спектроскопия
тонкие металлические пленки
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы




Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.