Отрывок: При использовании CVD необходимы надлежащие меры предосторожности. Вентиляция, очистка побочных продуктов и непрореагировавших соединений имеют важное значение в процессах CVD. CVD можно сгруппировать на основе энергии, используемой для запуска химической реакции. Источники энергии могут быть фотонными, лазерными или температурными (тепловыми). CVD охватыва...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorЛобова Т. С.ru
dc.contributor.authorШишкина Д. А.ru
dc.contributor.authorЕрендеев Ю. П.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатики и кибернетикиru
dc.coverage.spatialантиотражающее покрытиеru
dc.coverage.spatialвакуумru
dc.coverage.spatialкоэффициент отраженияru
dc.coverage.spatialмагнетронное напылениеru
dc.coverage.spatialмногослойные тонкопленочные структурыru
dc.coverage.spatialреактивное распылениеru
dc.coverage.spatialспектроскопияru
dc.coverage.spatialтонкие металлические пленкиru
dc.creatorЛобова Т. С.ru
dc.date.accessioned2022-09-16 14:22:39-
dc.date.available2022-09-16 14:22:39-
dc.date.issued2022ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20220810101133ru
dc.identifier.citationЛобова, Т. С. Методы нанесения тонких металлических плёнок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Т. С. Лобова ; рук. работы Д. А. Шишкина ; нормоконтролер Ю. П. Ерендеев ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики и. - Самара, 2022. - 1 файл (931 Кб). - Текст : электронныйru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Vypusknye-kvalifikacionnye-raboty/Metody-naneseniya-tonkih-metallicheskih-plenok-98714-
dc.description.abstractВ данной выпускной квалификационной работе разработанамаршрутная карта нанесения антиотражающего покрытия на основе многослойной тонкопленочной структуры с помощью реактивного магнетронного распыления.Объектом исследования является кремниевая пластина, на поверхность которой нанесены слои диоксида кремния и хрома. Данное покрытие уменьшает коэффициент отражения. Требуемый коэффициент отражения неболее 20% при длине волны λ=700 нм. В процессе работы использована установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ. Исследованы оптические характеристики абсорбера – толщина пленки и коэффициент отражения при λ=700 нм с помощью спектроскопического рефлектометра и интерферометра белого света WLI-DMR.ru
dc.titleМетоды нанесения тонких металлических плёнокru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti55.22ru
dc.subject.udc621.793.7ru
dc.textpartПри использовании CVD необходимы надлежащие меры предосторожности. Вентиляция, очистка побочных продуктов и непрореагировавших соединений имеют важное значение в процессах CVD. CVD можно сгруппировать на основе энергии, используемой для запуска химической реакции. Источники энергии могут быть фотонными, лазерными или температурными (тепловыми). CVD охватыва...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Лобова_Татьяна_Сергеевна_Методы_нанесения_тонких_металлических.pdf930.72 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.