Отрывок: Хорошую чувствительность показали образцы с текстурированной и шлифованной поверхностью с порообразованием до диффузии и временем травления 10 минут. В то время как образцы с готовым p-n-переходом на текстурированной поверхности при увеличении времени травления до 10 минут становились менее чувствите...
Название : Влияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремния
Другие названия : The influence of technological parameters on the optical properties of photosensitive structures based on porous silicon
Авторы/Редакторы : Латухина, Н.В.
Лизункова, Д.А.
Паранин, Д.В.
Рогожина, Г.А.
Latukhina, N.V.
Lizunkova, D.A.
Paranin, , V.D.
Rogozhina, G.A.
Ключевые слова : porous silicon
a reflection coefficient
multilayer systems
Дата публикации : 2018
Издательство : Новая техника
Библиографическое описание : Латухина Н.В. Влияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремния / Н.В. Латухина, Д.А. Лизункова, Д.В. Паранин, Г.А. Рогожина // Сборник трудов IV международной конференции и молодежной школы «Информационные технологии и нанотехнологии» (ИТНТ-2018) - Самара: Новая техника, 2018. - С.334-339.
Аннотация : Мы изучаем фоточувствительные структуры, содержащие слои пористого кремния, изготовленные по различным технологическим маршрутам. Исследованы спектральные характеристики коэффициента отражения структур с пористым слоем и их фоточувствительность. Показано влияние диффузии на оптические свойства структур. We study photosensitive structures containing porous silicon layers made on different technological routes. The spectral characteristics of the reflection coefficient of structures with a porous layer and their photosensitivity are investigated. The effect of diffusion on the optical properties of structures.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Vliyanie-tehnologicheskih-parametrov-na-opticheskie-svoistva-fotochuvstvitelnyh-struktur-na-osnove-poristogo-kremniya-69692
Другие идентификаторы : Dspace\SGAU\20180519\69692
Располагается в коллекциях: Информационные технологии и нанотехнологии

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
paper_50.pdfОсновная статья566.66 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.