Отрывок: Хорошую чувствительность показали образцы с текстурированной и шлифованной поверхностью с порообразованием до диффузии и временем травления 10 минут. В то время как образцы с готовым p-n-переходом на текстурированной поверхности при увеличении времени травления до 10 минут становились менее чувствите...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorЛатухина, Н.В.-
dc.contributor.authorЛизункова, Д.А.-
dc.contributor.authorПаранин, Д.В.-
dc.contributor.authorРогожина, Г.А.-
dc.contributor.authorLatukhina, N.V.-
dc.contributor.authorLizunkova, D.A.-
dc.contributor.authorParanin, , V.D.-
dc.contributor.authorRogozhina, G.A.-
dc.date.accessioned2018-05-22 10:09:18-
dc.date.available2018-05-22 10:09:18-
dc.date.issued2018-
dc.identifierDspace\SGAU\20180519\69692ru
dc.identifier.citationЛатухина Н.В. Влияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремния / Н.В. Латухина, Д.А. Лизункова, Д.В. Паранин, Г.А. Рогожина // Сборник трудов IV международной конференции и молодежной школы «Информационные технологии и нанотехнологии» (ИТНТ-2018) - Самара: Новая техника, 2018. - С.334-339.ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Vliyanie-tehnologicheskih-parametrov-na-opticheskie-svoistva-fotochuvstvitelnyh-struktur-na-osnove-poristogo-kremniya-69692-
dc.description.abstractМы изучаем фоточувствительные структуры, содержащие слои пористого кремния, изготовленные по различным технологическим маршрутам. Исследованы спектральные характеристики коэффициента отражения структур с пористым слоем и их фоточувствительность. Показано влияние диффузии на оптические свойства структур. We study photosensitive structures containing porous silicon layers made on different technological routes. The spectral characteristics of the reflection coefficient of structures with a porous layer and their photosensitivity are investigated. The effect of diffusion on the optical properties of structures.ru
dc.language.isorusru
dc.publisherНовая техникаru
dc.subjectporous siliconru
dc.subjecta reflection coefficientru
dc.subjectmultilayer systemsru
dc.titleВлияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремнияru
dc.title.alternativeThe influence of technological parameters on the optical properties of photosensitive structures based on porous siliconru
dc.typeArticleru
dc.textpartХорошую чувствительность показали образцы с текстурированной и шлифованной поверхностью с порообразованием до диффузии и временем травления 10 минут. В то время как образцы с готовым p-n-переходом на текстурированной поверхности при увеличении времени травления до 10 минут становились менее чувствите...-
Располагается в коллекциях: Информационные технологии и нанотехнологии

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
paper_50.pdfОсновная статья566.66 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.