Отрывок: Хорошую чувствительность показали образцы с текстурированной и шлифованной поверхностью с порообразованием до диффузии и временем травления 10 минут. В то время как образцы с готовым p-n-переходом на текстурированной поверхности при увеличении времени травления до 10 минут становились менее чувствите...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Латухина, Н.В. | - |
dc.contributor.author | Лизункова, Д.А. | - |
dc.contributor.author | Паранин, Д.В. | - |
dc.contributor.author | Рогожина, Г.А. | - |
dc.contributor.author | Latukhina, N.V. | - |
dc.contributor.author | Lizunkova, D.A. | - |
dc.contributor.author | Paranin, , V.D. | - |
dc.contributor.author | Rogozhina, G.A. | - |
dc.date.accessioned | 2018-05-22 10:09:18 | - |
dc.date.available | 2018-05-22 10:09:18 | - |
dc.date.issued | 2018 | - |
dc.identifier | Dspace\SGAU\20180519\69692 | ru |
dc.identifier.citation | Латухина Н.В. Влияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремния / Н.В. Латухина, Д.А. Лизункова, Д.В. Паранин, Г.А. Рогожина // Сборник трудов IV международной конференции и молодежной школы «Информационные технологии и нанотехнологии» (ИТНТ-2018) - Самара: Новая техника, 2018. - С.334-339. | ru |
dc.identifier.uri | http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Vliyanie-tehnologicheskih-parametrov-na-opticheskie-svoistva-fotochuvstvitelnyh-struktur-na-osnove-poristogo-kremniya-69692 | - |
dc.description.abstract | Мы изучаем фоточувствительные структуры, содержащие слои пористого кремния, изготовленные по различным технологическим маршрутам. Исследованы спектральные характеристики коэффициента отражения структур с пористым слоем и их фоточувствительность. Показано влияние диффузии на оптические свойства структур. We study photosensitive structures containing porous silicon layers made on different technological routes. The spectral characteristics of the reflection coefficient of structures with a porous layer and their photosensitivity are investigated. The effect of diffusion on the optical properties of structures. | ru |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.publisher | Новая техника | ru |
dc.subject | porous silicon | ru |
dc.subject | a reflection coefficient | ru |
dc.subject | multilayer systems | ru |
dc.title | Влияние технологических параметров на оптические свойства фоточувствительных структур на основе пористого кремния | ru |
dc.title.alternative | The influence of technological parameters on the optical properties of photosensitive structures based on porous silicon | ru |
dc.type | Article | ru |
dc.textpart | Хорошую чувствительность показали образцы с текстурированной и шлифованной поверхностью с порообразованием до диффузии и временем травления 10 минут. В то время как образцы с готовым p-n-переходом на текстурированной поверхности при увеличении времени травления до 10 минут становились менее чувствите... | - |
Располагается в коллекциях: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
paper_50.pdf | Основная статья | 566.66 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.