Отрывок: Формирование результирующего профиля при этом описывается как результат затягивания микрополостей, образующихся в слое резиста при экспонировании. Для этого слой резиста со внутренними микрополостями приближается пилообразной поверхностью, для к...
Название : Моделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии
Авторы/Редакторы : Сидоров Ф. А.
Рогожин А. Е.
Дата публикации : 2023
Библиографическое описание : Сидоров, Ф. А. Моделирование процесса формирования синусоидальных голографических решеток методом термостимулированной электронно-лучевой литографии / Ф. А. Сидоров, А. Е. Рогожин // Информационные технологии и нанотехнологии (ИТНТ-2023) : сб. тр. по материалам IX Междунар. конф. и молодеж. шк. (г. Самара, 17-23 апр. 2023 г.): в 6 т. / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т систем обраб. изобр. РАН - Фил. Федер. науч.-исслед. центра "Кристаллография и фотоника" Рос. акад. наук. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2023Т. 1: Компьютерная оптика и нанофотоника / под ред. Е. С. Козловой. - 2023. - С. 013262.
Аннотация : В данной работе описывается применение метода термостимулированной электронно-лучевой литографии для получения синусоидальныхголографических решеток в полимерном резисте, а также приводятся результаты моделирования результирующей формы профиля решеток при различных параметрах экспонирования. На примере моделирования линий, получаемых данным методом в ПММА установлено, что при правильном подборе параметров экспонирования форма результирующего профиля с высокой точностью является синусоидальной.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Modelirovanie-processa-formirovaniya-sinusoidalnyh-golograficheskih-reshetok-metodom-termostimulirovannoi-elektronnoluchevoi-litografii-105617
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\541492
Ключевые слова: синусоидальные голографические решетки
термическая деполимеризация
термостимулированная электронно-лучевая литография
Располагается в коллекциях: Информационные технологии и нанотехнологии

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
978-5-7883-1917-9_2023-013262.pdf554.74 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.