Отрывок: Л. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2...
Название : | Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур |
Авторы/Редакторы : | Кутурин В. А. Ханенко Ю. В. |
Дата публикации : | 2022 |
Библиографическое описание : | Кутурин, В. А. Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур / В. А. Кутурин, Ю. В. Ханенко // Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. / Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т) ; под ред. А. И. Данилина. - Самара : Артель, 2022. - С. 96-98. |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : | http://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Obzor-sovremennyh-metodov-i-sredstv-plazmennogo-travleniya-mikroelektronnyh-struktur-97432 |
Другие идентификаторы : | RU\НТБ СГАУ\481341 |
Ключевые слова: | фотостимулированные процессы радикальное травление плазменное травление плазмохимическое нанесение пленок реактивно-ионно-плазменное травление ионно-лучевое травление ионно-плазменное осаждение пленок микроэлектронные структуры низкотемпературная плазма |
Располагается в коллекциях: | Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
978-5-903-943-17-3_2022-96-98.pdf | 253.47 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.