Отрывок: Л. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2...
Название : Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур
Авторы/Редакторы : Кутурин В. А.
Ханенко Ю. В.
Дата публикации : 2022
Библиографическое описание : Кутурин, В. А. Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур / В. А. Кутурин, Ю. В. Ханенко // Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. / Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т) ; под ред. А. И. Данилина. - Самара : Артель, 2022. - С. 96-98.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Obzor-sovremennyh-metodov-i-sredstv-plazmennogo-travleniya-mikroelektronnyh-struktur-97432
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\481341
Ключевые слова: фотостимулированные процессы
радикальное травление
плазменное травление
плазмохимическое нанесение пленок
реактивно-ионно-плазменное травление
ионно-лучевое травление
ионно-плазменное осаждение пленок
микроэлектронные структуры
низкотемпературная плазма
Располагается в коллекциях: Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
978-5-903-943-17-3_2022-96-98.pdf253.47 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.