Отрывок: Л. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Кутурин В. А. | ru |
dc.contributor.author | Ханенко Ю. В. | ru |
dc.coverage.spatial | фотостимулированные процессы | ru |
dc.coverage.spatial | радикальное травление | ru |
dc.coverage.spatial | плазменное травление | ru |
dc.coverage.spatial | плазмохимическое нанесение пленок | ru |
dc.coverage.spatial | реактивно-ионно-плазменное травление | ru |
dc.coverage.spatial | ионно-лучевое травление | ru |
dc.coverage.spatial | ионно-плазменное осаждение пленок | ru |
dc.coverage.spatial | микроэлектронные структуры | ru |
dc.coverage.spatial | низкотемпературная плазма | ru |
dc.creator | Кутурин В. А., Ханенко Ю. В. | ru |
dc.date.accessioned | 2022-05-13 12:59:02 | - |
dc.date.available | 2022-05-13 12:59:02 | - |
dc.date.issued | 2022 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\481341 | ru |
dc.identifier.citation | Кутурин, В. А. Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур / В. А. Кутурин, Ю. В. Ханенко // Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. / Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т) ; под ред. А. И. Данилина. - Самара : Артель, 2022. - С. 96-98. | ru |
dc.identifier.uri | http://repo.ssau.ru/handle/Aktualnye-problemy-radioelektroniki-i-telekommunikacii/Obzor-sovremennyh-metodov-i-sredstv-plazmennogo-travleniya-mikroelektronnyh-struktur-97432 | - |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.source | Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций : материалы Всерос. науч.-техн. конф. 19-22 апр. 2022 г. - Текст : электронный | ru |
dc.title | Обзор современных методов и средств плазменного травления микроэлектронных структур | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.citation.epage | 98 | ru |
dc.citation.spage | 96 | ru |
dc.textpart | Л. Казанский, В.А. Колпаков – М.: Радио и связь, 2009. – 220 с. 98 4. Вакуумно-плазменные процессы и технологии: Учеб. Пособие / А.М. Ефремов, В.И. Светцов, В.В. Рыбкин; ГОУВПО Иван. Гос. хим.-технол. Ун-т. Иваново, 2006 – 260 с. 5. Осаждение тонких пленок из низкотемпературной плазмы и ионных пучков в технологии микроэлектроники / Ф.И. Григорьев: Учебное пособие / Моск. гос. ин- т электроники и математики. М., 2... | - |
Располагается в коллекциях: | Актуальные проблемы радиоэлектроники и телекоммуникаций |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
978-5-903-943-17-3_2022-96-98.pdf | 253.47 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.