Разработка технологии изготовления микроэлектромеханических систем на основе структур кремний-на-изоляторе

Abstract

Объектом исследования является МЭМС гироскоп, выполненный в SOI структуре с размерами: толщина несущего слоя - 400 мкм, толщина оксидного слоя - 10 мкм, толщина слоя поликремния - 12 мкм, разработка технологии изготовления данного устройства, а так же разработка методики исследования МЭМС гироскопа и анализ полученных результатов. Цель работы – разработка технологии и исследование МЭМС гироскопа. В данной работе была рассмотрена МЭМС технология, ее особенности и преимущества, некоторые устройства, которые изготавливаются по этой технологии, в частности, гироскопы. Рассмотрены методы производства МЭМС гироскопа, такие как: литография, экспонирование и травление. Была разработана технология изготовления МЭМС гироскопа, которая включала в себя: RCA обработку, оптическую литографию, экспонирование в ультрафиолетовой лампе, травление с использованием Bosch процесса и процесс освобождения. В результате эксперимента были выявлены нужные параметры данных процессов, получен требуемый образец МЭМС гироскопа, сделаны ег