Отрывок: В основном в плазме тлеющего разряда подложки нагреваются из-за высокоэнергетических вторичных электронов, выходящих с мишени. В магнетронной распылительной системе вторичные электроны захватываются магнитной ловушкой и не бомбардируют подложку, что обеспечивает ее сравнительно низкую температуру. В таких системах подложки нагреваются из-за кинетической энергии и энергии конденсации осаждаемых атомов, энергии ионов, которые...
Название : Разработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатора
Авторы/Редакторы : Шунайлов П. П.
Архипов А. В.
Лофицкий И. В.
Министерство образования и науки Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2018
Библиографическое описание : Шунайлов, П. П. Разработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатора : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / П. П. Шунайлов ; рук. работы А. В. Архипов; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и эле. - Самара, 2018. - on-line
Аннотация : Объектом исследования является технология создания тонких пленок,предмет исследования - тонкопленочный конденсатор.Цель работы – произвести разработку конструкции и исследованиепараметров тонкопленочного конденсатора.В работе изучены методы нанесения
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20180718143525
Ключевые слова: магнетронное напыление
тонкопленочные конденсаторы
технологические процессы
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Шунайлов_Павел_Павлович_Разработка_конструкции_исследование.pdf2.67 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.