Отрывок: В основном в плазме тлеющего разряда подложки нагреваются из-за высокоэнергетических вторичных электронов, выходящих с мишени. В магнетронной распылительной системе вторичные электроны захватываются магнитной ловушкой и не бомбардируют подложку, что обеспечивает ее сравнительно низкую температуру. В таких системах подложки нагреваются из-за кинетической энергии и энергии конденсации осаждаемых атомов, энергии ионов, которые...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorШунайлов П. П.ru
dc.contributor.authorАрхипов А. В.ru
dc.contributor.authorЛофицкий И. В.ru
dc.contributor.authorМинистерство образования и науки Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialмагнетронное напылениеru
dc.coverage.spatialтонкопленочные конденсаторыru
dc.coverage.spatialтехнологические процессыru
dc.creatorШунайлов П. П.ru
dc.date.issued2018ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20180718143525ru
dc.identifier.citationШунайлов, П. П. Разработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатора : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / П. П. Шунайлов ; рук. работы А. В. Архипов; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и эле. - Самара, 2018. - on-lineru
dc.description.abstractОбъектом исследования является технология создания тонких пленок,предмет исследования - тонкопленочный конденсатор.Цель работы – произвести разработку конструкции и исследованиепараметров тонкопленочного конденсатора.В работе изучены методы нанесенияru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 2,6 Мб)ru
dc.titleРазработка конструкции и исследование параметров тонкопленочного конденсатораru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.61ru
dc.subject.udc621.316.8ru
dc.textpartВ основном в плазме тлеющего разряда подложки нагреваются из-за высокоэнергетических вторичных электронов, выходящих с мишени. В магнетронной распылительной системе вторичные электроны захватываются магнитной ловушкой и не бомбардируют подложку, что обеспечивает ее сравнительно низкую температуру. В таких системах подложки нагреваются из-за кинетической энергии и энергии конденсации осаждаемых атомов, энергии ионов, которые...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Шунайлов_Павел_Павлович_Разработка_конструкции_исследование.pdf2.67 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.