Отрывок: Хром использован в качестве материала резистивной пленки. Он популярен и доступен среди чистых металлов, к тому же прост в применении. Хром отличается хорошей адгезией с подложкой. Пленки хрома достаточно стабильны. Удельное поверхностное сопротивление хромовых пленок составляет 10 – 50 Ом/кв, ТКС (1 – 5)∙10-4 1/°С. Материал контактных площадок – медь. Она является одним из самых доступных и распространенных материалов контактных площадок. Удельное сопроти...
Название : Расчет, разработка технологии изготовления и исследование тонкопленочного резистора типа змейка
Авторы/Редакторы : Ширина В. А.
Карпеев С. В.
Ерендеев Ю. П.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики и кибернетики
Дата публикации : 2022
Библиографическое описание : Ширина, В. А. Расчет, разработка технологии изготовления и исследование тонкопленочного резистора типа змейка : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / В. А. Ширина ; рук. работы С. В. Карпеев ; нормоконтролер Ю. П. Ерендеев ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики и. - Самара, 2022. - 1 файл (4,2 Мб). - Текст : электронный
Аннотация : Объектом исследования является технология и методы изготовления тонкопленочного резистора типа змейка, его расчет, проектирование и изготовление. Цель работы – рассчитать, разработать технологию изготовления иисследовать тонкопленочный резистор типа змейка.В процессе работы проанализирована соответствующая литература по теме работы. Рассчитан и сконструирован тонкопленочный резистор типа змейка. Выбраны необходимые материалы для изготовлениятонкопленочного резистора (ТПР) типа змейка. Подобраны режимы и параметры для реализации процессов технологического маршрута изготовления ТПР. Составлена маршрутная технология для изготовлениянеобходимого тонкопленочного элемента; разработан, изготовлен и исследован тонкопленочный резистор. В процессе работы использована установка магнетронного напыления ЭТНА-100-МТ, оптический микроскоп Leica DMRE. Полученный тонкопленочный резистор имеет широкую область применения в: системах электронной обработки данных, промышленном и медицинском электрооборудовании, телекоммуникац
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Vypusknye-kvalifikacionnye-raboty/Raschet-razrabotka-tehnologii-izgotovleniya-i-issledovanie-tonkoplenochnogo-rezistora-tipa-zmeika-98211
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20220621152839
Ключевые слова: конструирование
магнетронное распыление
тонкие пленки
тонкопленочные резисторы типа змейка
фотолитография
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Ширина_Виктория_Александровна_Расчет,_разработка_технологии_изготовления.pdf4.31 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.