Отрывок: 2.3 Позитивный и негативный фоторезисты В позитивных фоторезистах, проэкспонированные области становятся растворимыми и после проявления разрушаются. Такие фоторезисты, как правило, позволяют получать более высокие разрешения нежели негативные, но стоят дороже. В негативных фоторезистах, проэкспонированные области полимеризуются и становятся нерастворимыми, так что после проявления растворяются только не проэкспонированные области. Н...
Название : Расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК-излучения в точку
Авторы/Редакторы : Берещук Е. С.
Харитонов С. И.
Саноян А. Г.
Минобрнауки России
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2019
Библиографическое описание : Берещук, Е. С. Расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК-излучения в точку : вып. квалификац. работа по направлению подгот. "Электроника и наноэлектроника" (уровень академического бакалавриата) / Е. С. Берещук ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер А. Г. Саноян ; Минобрнауки России, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники, Ф. - Самаpа, 2019. - on-line
Аннотация : Объектом исследования является фокусатор ИК излучения в точку. Цель работы− расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК излучения в точку. В ходе выполнения лабораторной работы была рассчитана амплитудная маска для фокусатора и изготовлен фотошаблон
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20190808104313
Ключевые слова: амплитудные маски
излучение инфракрасного диапазона
ФОКУСАТОРЫ
фотошаблоны
фотолитография
дифракция света
высота микрорельефа
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы




Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.