Отрывок: 2.3 Позитивный и негативный фоторезисты В позитивных фоторезистах, проэкспонированные области становятся растворимыми и после проявления разрушаются. Такие фоторезисты, как правило, позволяют получать более высокие разрешения нежели негативные, но стоят дороже. В негативных фоторезистах, проэкспонированные области полимеризуются и становятся нерастворимыми, так что после проявления растворяются только не проэкспонированные области. Н...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Берещук Е. С. | ru |
dc.contributor.author | Харитонов С. И. | ru |
dc.contributor.author | Саноян А. Г. | ru |
dc.contributor.author | Минобрнауки России | ru |
dc.contributor.author | Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет) | ru |
dc.contributor.author | Институт информатики | ru |
dc.contributor.author | математики и электроники | ru |
dc.coverage.spatial | амплитудные маски | ru |
dc.coverage.spatial | излучение инфракрасного диапазона | ru |
dc.coverage.spatial | ФОКУСАТОРЫ | ru |
dc.coverage.spatial | фотошаблоны | ru |
dc.coverage.spatial | фотолитография | ru |
dc.coverage.spatial | дифракция света | ru |
dc.coverage.spatial | высота микрорельефа | ru |
dc.creator | Берещук Е. С. | ru |
dc.date.issued | 2019 | ru |
dc.identifier | RU\НТБ СГАУ\ВКР20190808104313 | ru |
dc.identifier.citation | Берещук, Е. С. Расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК-излучения в точку : вып. квалификац. работа по направлению подгот. "Электроника и наноэлектроника" (уровень академического бакалавриата) / Е. С. Берещук ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер А. Г. Саноян ; Минобрнауки России, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, математики и электроники, Ф. - Самаpа, 2019. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Объектом исследования является фокусатор ИК излучения в точку. Цель работы− расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК излучения в точку. В ходе выполнения лабораторной работы была рассчитана амплитудная маска для фокусатора и изготовлен фотошаблон | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 1,3 Мб) | ru |
dc.title | Расчет, изготовление и исследование фокусатора ИК-излучения в точку | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 29.31 | ru |
dc.subject.udc | 535.42 | ru |
dc.textpart | 2.3 Позитивный и негативный фоторезисты В позитивных фоторезистах, проэкспонированные области становятся растворимыми и после проявления разрушаются. Такие фоторезисты, как правило, позволяют получать более высокие разрешения нежели негативные, но стоят дороже. В негативных фоторезистах, проэкспонированные области полимеризуются и становятся нерастворимыми, так что после проявления растворяются только не проэкспонированные области. Н... | - |
Располагается в коллекциях: | Выпускные квалификационные работы |
Файлы этого ресурса:
Файл | Размер | Формат | |
---|---|---|---|
Берещук_Екатерина_Сергеевна_Расчет,_изготовление_исследование.pdf | 1.31 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.