Отрывок: Высокое парциальное давление O2 заставляло мишень перейти в реактивную моду, которая характеризуется низкой скоростью распыления и имеющими высокое содержание реактивного газа пленками. Это показывает, что оптимальных параметров пленки нельзя достигнуть при "отравленной" мишени. При увеличении расстояния мишень – подложка были получены стехиометрические пленки TiO2 при более...
Название : Получение тонких диэлектрических пленок методом реактивного магнетронного распыления
Авторы/Редакторы : Золотов А. Д.
Карпеев С. В.
Шишкина Д. А.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2021
Библиографическое описание : Золотов, А. Д. Получение тонких диэлектрических пленок методом реактивного магнетронного распыления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / А. Д. Золотов ; рук. работы С. В. Карпеев; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, ма. - Самара, 2021. - on-line
Аннотация : Объектом исследования является процесс получения диэлектрических плёнок методом магнетронного реактивного напыления. Цель работы – экспериментальным способом получить оптимальныепараметры реактивного напыления и произвести объективное измерение показателя преломления для разных материалов. В процессе работы были исследованы экспериментальные образцы трёх подложек с материалами, напылёнными методом магнетронного реактивного напыления: оксид алюминия (Al 2 O 3 ), оксид кремния (SiO 2 ), оксид титана (TiO 2 ). На рефрактометре произведено исследование толщины напылённогоматериала. В ходе исследований были установлены оптимальные условия напыления вышеуказанных материалов для метода магнетронного реактивногонапыления на установке ЭТНА-100-МТ.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20210914135043
Ключевые слова: метод реактивного магнетронного распыления
показатель преломления
реактивное магнетронное распыление
тонкие диэлектрические пленки
фотолитография
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Золотов_Алексей_Дмитриевич_Получение_тонких_диэлектрических_пленок.pdf1.38 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.