Отрывок: Высокое парциальное давление O2 заставляло мишень перейти в реактивную моду, которая характеризуется низкой скоростью распыления и имеющими высокое содержание реактивного газа пленками. Это показывает, что оптимальных параметров пленки нельзя достигнуть при "отравленной" мишени. При увеличении расстояния мишень – подложка были получены стехиометрические пленки TiO2 при более...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorЗолотов А. Д.ru
dc.contributor.authorКарпеев С. В.ru
dc.contributor.authorШишкина Д. А.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialметод реактивного магнетронного распыленияru
dc.coverage.spatialпоказатель преломленияru
dc.coverage.spatialреактивное магнетронное распылениеru
dc.coverage.spatialтонкие диэлектрические пленкиru
dc.coverage.spatialфотолитографияru
dc.creatorЗолотов А. Д.ru
dc.date.issued2021ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20210914135043ru
dc.identifier.citationЗолотов, А. Д. Получение тонких диэлектрических пленок методом реактивного магнетронного распыления : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / А. Д. Золотов ; рук. работы С. В. Карпеев; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, ма. - Самара, 2021. - on-lineru
dc.description.abstractОбъектом исследования является процесс получения диэлектрических плёнок методом магнетронного реактивного напыления. Цель работы – экспериментальным способом получить оптимальныепараметры реактивного напыления и произвести объективное измерение показателя преломления для разных материалов. В процессе работы были исследованы экспериментальные образцы трёх подложек с материалами, напылёнными методом магнетронного реактивного напыления: оксид алюминия (Al 2 O 3 ), оксид кремния (SiO 2 ), оксид титана (TiO 2 ). На рефрактометре произведено исследование толщины напылённогоматериала. В ходе исследований были установлены оптимальные условия напыления вышеуказанных материалов для метода магнетронного реактивногонапыления на установке ЭТНА-100-МТ.ru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 1,4 Мб)ru
dc.titleПолучение тонких диэлектрических пленок методом реактивного магнетронного распыленияru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti55.22ru
dc.subject.udc621.793.7ru
dc.textpartВысокое парциальное давление O2 заставляло мишень перейти в реактивную моду, которая характеризуется низкой скоростью распыления и имеющими высокое содержание реактивного газа пленками. Это показывает, что оптимальных параметров пленки нельзя достигнуть при "отравленной" мишени. При увеличении расстояния мишень – подложка были получены стехиометрические пленки TiO2 при более...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Золотов_Алексей_Дмитриевич_Получение_тонких_диэлектрических_пленок.pdf1.38 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.