Отрывок: 25 3.1.1.1 Резистивное испарение Резистивное испарение – нагрев тела до температуры испарения пропусканием через него электрического тока. Оборудование для резистивного испарения обладает низкой стоимостью, высокой безопасностью. А также возможностью нанесения плёнок металлов, полупроводников и диэлектриков. Несмотря на высокую скорость осаждения, данный метод обладает рядом недостатков, например, загрязнение подложки молекулами материала нагревателя,...
Название : Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов
Авторы/Редакторы : Кондратьев И. С.
Паранин В. Д.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2020
Библиографическое описание : Кондратьев, И. С. Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / И. С. Кондратьев ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский ун-т), Ин-т информатики. - Самара, 2020. - on-line
Аннотация : В выпускной квалификационной работе представлены результаты отимизизации технологического процесса изготовления бинарного маскирующего покрытия на основе тонких пленок металлов. В процессе работы были решены требуемые, для выполнения технического задания, задачи. В результате работы были получены параметры электронной литографии для экспонирования шаблона фотолитографии оптического и УФ диапозонов.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20200619155036
Ключевые слова: шаблон
электронная литография
технологические процессы
кремниевая подложка
металлическая пленка
твердые маски металлов
жидкостное травление
напыление
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы




Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.