Отрывок: 25 3.1.1.1 Резистивное испарение Резистивное испарение – нагрев тела до температуры испарения пропусканием через него электрического тока. Оборудование для резистивного испарения обладает низкой стоимостью, высокой безопасностью. А также возможностью нанесения плёнок металлов, полупроводников и диэлектриков. Несмотря на высокую скорость осаждения, данный метод обладает рядом недостатков, например, загрязнение подложки молекулами материала нагревателя,...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorКондратьев И. С.ru
dc.contributor.authorПаранин В. Д.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialшаблонru
dc.coverage.spatialэлектронная литографияru
dc.coverage.spatialтехнологические процессыru
dc.coverage.spatialкремниевая подложкаru
dc.coverage.spatialметаллическая пленкаru
dc.coverage.spatialтвердые маски металловru
dc.coverage.spatialжидкостное травлениеru
dc.coverage.spatialнапылениеru
dc.creatorКондратьев И. С.ru
dc.date.issued2020ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20200619155036ru
dc.identifier.citationКондратьев, И. С. Оптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металлов : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / И. С. Кондратьев ; рук. работы В. Д. Паранин ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский ун-т), Ин-т информатики. - Самара, 2020. - on-lineru
dc.description.abstractВ выпускной квалификационной работе представлены результаты отимизизации технологического процесса изготовления бинарного маскирующего покрытия на основе тонких пленок металлов. В процессе работы были решены требуемые, для выполнения технического задания, задачи. В результате работы были получены параметры электронной литографии для экспонирования шаблона фотолитографии оптического и УФ диапозонов.ru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 1,5 Мб)ru
dc.titleОптимизация параметров процесса электронной литографии для получения твёрдых масок металловru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.13.33ru
dc.subject.udc621.3.049.77ru
dc.textpart25 3.1.1.1 Резистивное испарение Резистивное испарение – нагрев тела до температуры испарения пропусканием через него электрического тока. Оборудование для резистивного испарения обладает низкой стоимостью, высокой безопасностью. А также возможностью нанесения плёнок металлов, полупроводников и диэлектриков. Несмотря на высокую скорость осаждения, данный метод обладает рядом недостатков, например, загрязнение подложки молекулами материала нагревателя,...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Кондратьев_Илья_Сергеевич_Оптимизация_параметров_процесса_электронной.pdf1.51 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.