Отрывок: 2.3 Процессы травления и их применение в микроструктурировании Технологии травления можно разделить на две группы: жидкостное (влажное) и сухое. 2.3.1 Жидкостное травление В зависимости от вида материала, состава травителя и условий травления принято различать два механизма жидкостного травления: электрохимический и химический. 24 ...
Название : Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием твердых масок
Авторы/Редакторы : Гзиришвили Н. Г.
Харитонов С. И.
Шишкина Д. А.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2021
Библиографическое описание : Гзиришвили, Н. Г. Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием твердых масок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Н. Г. Гзиришвили ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информати. - Самара, 2021. - on-line
Аннотация : Объектом исследования является сухое травление кремния черезтвердые маски алюминия и хрома.Цель работы – исследование особенностей и селективности сухоготравления кремния с использованием твердых масок.В ходе выполнения работы были исследованы возможные методынанесения тонкопленочного покрытия; исследованы методы травлениякремния; исследованы способы измерения глубины травления. Проведенасерия экспериментов по нанесению маскирующего покрытия методоммагнетронного распыления и травлению пластин кремния методом Bosch-процесса. Сделан анализ полученных экспериментальных данных.Определена селективность и особенности исследуемых тонкопленочныхпокрытий.Практический результат работы состоит в выявлении особенностей иселективности сухого травления кремния с использованием твердых масок сцелью дальнейшего определения оптимальной толщины маски длявыполнения травления в заданных условиях на заданную глубину.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20210914151233
Ключевые слова: BOSCH процессы
интерферометрия белого света
магнетронное распыление
плазмохимическое травление
сухое травление кремния
твердые маски
фотолитография
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы




Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.