Отрывок: Это связано с тем, что: во-первых, данный процесс сухой, количество загрязнений, попадающих на поверхность меньше, то есть не требуется дополнительных затрат на сушку и очистку от продуктов реакции; во-вторых, реагенты более безвредны, не воспламеняются; в-третьих, данный процесс автоматизирован, и включает в себя возможность совмещения в одном объеме нескольких технологических операций. Кроме того сухое травление обеспечивает более высокую разрешающую способность, в отличие от ж...
Название : Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием мягких масок
Авторы/Редакторы : Гзиришвили Л. Г.
Харитонов С. И.
Шишкина Д. А.
Министерство науки и высшего образования Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2021
Библиографическое описание : Гзиришвили, Л. Г. Исследование особенностей и селективности сухого травления кремния с использованием мягких масок : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / Л. Г. Гзиришвили ; рук. работы С. И. Харитонов ; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информати. - Самара, 2021. - on-line
Аннотация : Объектом исследования является реактивно-ионное травление кремниячерез мягкие маски на основе фоторезистов марки ФП-3520 и ФП-051 КИ.Цель работы – исследование особенности и селективности сухоготравления кремния с использованием мягких масок.Рассмотрены достоинства и недостатки предложенных марокфоторезистов. Исследовано влияние технологических параметровизотропного травления и Bosch-процесса на селективность мягких масок.В результате работы был произведен обзор литературы методовлитографии, сухого травления, измерения глубины травления и толщинымаски. Были произведены фотолитографические процессы, плазмохимическоетравление исследуемых мягких масок, выполнены измерения глубинытравления и толщины масок. Проведен анализ полученных результатов иполучены зависимости скоростей травления от параметров процесса. Такжебыли исследованы особенности предложенных маскирующих покрытий.Практическая ценность работы заключается в возможности дальнейшейоптимизации параметров Bosch-процесса при изменении глобаль
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20210914154156
Ключевые слова: BOSCH процессы
интерферометрия белого света
мягкие маски
сухое травление кремния
фотолитография
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы




Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.