Отрывок: Большинство перечисленных элементов присутствуют в сканирующем электронном микроскопе (СЭМ). В штатном режиме СЭМ выполняет построчное ...
Название : Оптимизация технологии электронной литографии для изготовления трехмерных структур в объеме полиметилметакрилата
Авторы/Редакторы : Васильева Э. М.
Тукмаков К. Н.
Лофицкий И. В.
Министерство образования и науки Российской Федерации
Самарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)
Институт информатики
математики и электроники
Дата публикации : 2017
Библиографическое описание : Васильева, Э. М. Оптимизация технологии электронной литографии для изготовления трехмерных структур в объеме полиметилметакрилата : вып. квалификац. работа по спец. "Электроника и наноэлектроника" / Э. М. Васильева ; рук. работы К. Н. Тукмаков; рец. И. В. Лофицкий ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Фак-т электроники и приборострое. - Самара, 2017. - on-line
Аннотация : В данной работе рассматриваются вопросы, связанные с отработкойпроцесса электронно-лучевой литографии и создания трехмерной тестовойструктуры.Цель работы – оптимизировать параметры процесса электронно-лучевойлитографии и на основании проведенной работы изготовить трехмернуютестовую структуру, подобрав оптимальное время проявления резиста и дозуэкспонирования.Исследованы основные процессы электронной литографии, ее аппаратноеобеспечение и проблемы, возникающие в процессе создания структур.Оптимизирован процесс электронной литографии для нанесения рисунка наслой резиста ПММА.Разработана тестовая трехмерная структура, изготовленная на подложкеиз кремния. Подобран позитивный резист для проведения электронно-лучевойлитографии. Определена оптимальная доза экспонирования при даннойтолщине резиста.
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\ВКР20171214154133
Ключевые слова: ток пучка
позитивный резист
экспонирование
электронно-лучевая литография
сканирующий электронный микроскоп
доза экспонирования
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Васильева_Элина_Михайловна_Оптимизация_технологии_электронной_литографии.pdf1.22 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.