Отрывок: шлифовании тепловой мощности поступила в обрабаты- ваемую заготовку;  3k – коэффициент, учитывающий влияние конструкции шли- фовального круга на изменение температуры в зоне контакта круга с деталью; Ra – среднее арифметическое отклонение профиля, мкм; к – скорость круга, м/с; RaRa mС , – коэффициент и показатель степени, зависящие от группы обраба- тываемых материалов и вида шлифования; общk – коэффициент, учитывающий влияние марки абразивного материала, поверхностной пористости и ...
Название : Определение оптимальной кинематики процесса шлифования с помощью математической модели
Авторы/Редакторы : Федоров Д. Г.
Букатый А. С.
Евдокимов Д. В.
Просоедов И. А.
Завязкин А. А.
Дата публикации : 2022
Библиографическое описание : Определение оптимальной кинематики процесса шлифования с помощью математической модели / Д. Г. Федоров, А. С. Букатый, Д. В. Евдокимов, И. А. Просоедов, А. А. Завязкин // Управление движением и навигация летательных аппаратов : cб. тр. XXV Всерос. семинара по упр. движением и навигации летат. аппаратов, (Самара, 15-17 июня 2022 г.) / М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ракет.-косм. центр «Прогресс», Самар. федер. исслед. центр Рос. акад. наук [и др.] ; [науч. ред. И.С. Ткаченко и др. ; отв. за вып. сб. П. В. Фадеенков]. - Самара : Изд-во Самар. ун-та, 2022. - С. 217-221.
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Upravlenie-dvizheniem-i-navigaciya-letatelnyh-apparatov/Opredelenie-optimalnoi-kinematiki-processa-shlifovaniya-s-pomoshu-matematicheskoi-modeli-101636
Другие идентификаторы : RU\НТБ СГАУ\522707
Ключевые слова: шлифование
кинематика процесса шлифования
математические модели управления
процесс шлифования
плоское шлифование периферией
управление процессами
теория оптимизации
Располагается в коллекциях: Управление движением и навигация ЛА

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
978-5-7883-1831-8_2022-217-221.pdf477.49 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.