Отрывок: 1. а – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси (2) и нитрида кремния (3), фоторезиста AZ-1350j (4) в плазме 4CF от электрической мощности, выделяемой на подложке; б – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси кремния (2) от мощности, вкладываемой в разряд. Плазма оказывается обогащенной атомарным хлором и фтором. Аналогичные зависимости скорости травления наблюдаются при ПХТ других материалов. Обработка ионами подложки, разм...
Название : Исследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-метод. пособие
Авторы/Редакторы : Волков А. В.
Министерство образования и науки Российской Федерации
Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева (национальный исследовательский университет) (СГАУ)
Дата публикации : 2013
Аннотация : Используемые программы: Adobe Acrobat.
Рассмотрены вопросы исследования и выбора технологических режимов плазменного ионно-химического травления при использовании установки “Caroline PE15”. Электронное учебно-методическое пособие предназначено для подготовки магистров направления 010900.68 «Пр
Труды сотрудников СГАУ(электрон. версия).
Другие идентификаторы : RU/НТБ СГАУ/WALL/621.792/В 676-185068
Ключевые слова: плазменое травление
Располагается в коллекциях: Учебные издания

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
Волков А.В. Исследование технологических.pdffrom 1C2.61 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.