Отрывок: 1. а – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси (2) и нитрида кремния (3), фоторезиста AZ-1350j (4) в плазме 4CF от электрической мощности, выделяемой на подложке; б – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси кремния (2) от мощности, вкладываемой в разряд. Плазма оказывается обогащенной атомарным хлором и фтором. Аналогичные зависимости скорости травления наблюдаются при ПХТ других материалов. Обработка ионами подложки, разм...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorВолков А. В.ru
dc.contributor.authorМинистерство образования и науки Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева (национальный исследовательский университет) (СГАУ)ru
dc.coverage.spatialплазменое травлениеru
dc.creatorВолков А. В.ru
dc.date.issued2013ru
dc.identifierRU/НТБ СГАУ/WALL/621.792/В 676-185068ru
dc.identifier.citationВолков, А. В. Исследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-метод. пособие / А. В. Волков ; М-во образования и науки Рос. Федерации, Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева (нац. исслед. ун-т) (СГАУ). - Самара, 2013. - on-lineru
dc.description.abstractИспользуемые программы: Adobe Acrobat.ru
dc.description.abstractТруды сотрудников СГАУ(электрон. версия).ru
dc.description.abstractРассмотрены вопросы исследования и выбора технологических режимов плазменного ионно-химического травления при использовании установки “Caroline PE15”. Электронное учебно-методическое пособие предназначено для подготовки магистров направления 010900.68 «Прru
dc.format.extentЭлектрон. текстовые и граф. дан. (1 файл : 2,55 Мбайт)ru
dc.language.isorusru
dc.relation.isformatofИсследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15" [Электронный ресурс] : электрон. учеб.-методru
dc.titleИсследование технологических режимов плазменного ионно-химического травления на установке "Caroline PE15"ru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti55.03ru
dc.subject.udc621.792(075)ru
dc.textpart1. а – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси (2) и нитрида кремния (3), фоторезиста AZ-1350j (4) в плазме 4CF от электрической мощности, выделяемой на подложке; б – зависимость скорости травления кремния (1), двуокиси кремния (2) от мощности, вкладываемой в разряд. Плазма оказывается обогащенной атомарным хлором и фтором. Аналогичные зависимости скорости травления наблюдаются при ПХТ других материалов. Обработка ионами подложки, разм...-
Располагается в коллекциях: Учебные издания

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
Волков А.В. Исследование технологических.pdffrom 1C2.61 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.