Отрывок: Низкая скорость травления кремния в данном случае обусловлена малой энергией фторсодержащих ионов, и низкой концентрацией ХАЧ высоковольтного газового разряда, что кореллирует с данными работы [1, 2]. При напряжении U=1100В и токе I=190мА (рис. 1, d) наблюдается увеличение глубины травления до 350нм. Однако при этом происходит повышение степени шероховатости, которое вызвано, по-видимому, недостаточной скоростью удаления пассивирующего...
Название : Исследование процессов травления кремния во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда
Авторы/Редакторы : Колпаков, В.А.
Подлипнов, В.В.
Ключевые слова : внеэлектродная плазма
высоковольтный газовый разряд
травление кремния
Дата публикации : 2011
Издательство : Издательство Самарского государственного аэрокосмического университета
Библиографическое описание : Региональная научно-практическая конференция, посвящѐнная 50-летию первого полѐта человека в космос. Самара, 14-15 апреля 2011 г.: тезисы докладов. – Самара: Издательство Самарского государственного аэрокосмического университета, 2011. – c. 217-218
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : http://repo.ssau.ru/handle/Sbornik-tezisov-dokladov-regionalnoi-nauchnoprakticheskoi-konferencii-posvyashennoi-50letiu-pervogo-poleta-cheloveka-v-kosmos/Issledovanie-processov-travleniya-kremniya-vo-vneelektrodnoi-plazme-vysokovoltnogo-gazovogo-razryada-63384
ISBN : 978-5-7883-0839-5
Другие идентификаторы : Dspace\SGAU\20170403\63384
УДК: 621.382
Располагается в коллекциях: Сборник тезисов докладов региональной научно-практической конференции, посвященной 50-летию первого полета человека в космос

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
217-218.pdfОсновная статья285.13 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.