Отрывок: Низкая скорость травления кремния в данном случае обусловлена малой энергией фторсодержащих ионов, и низкой концентрацией ХАЧ высоковольтного газового разряда, что кореллирует с данными работы [1, 2]. При напряжении U=1100В и токе I=190мА (рис. 1, d) наблюдается увеличение глубины травления до 350нм. Однако при этом происходит повышение степени шероховатости, которое вызвано, по-видимому, недостаточной скоростью удаления пассивирующего...
Название : | Исследование процессов травления кремния во внеэлектродной плазме высоковольтного газового разряда |
Авторы/Редакторы : | Колпаков, В.А. Подлипнов, В.В. |
Ключевые слова : | внеэлектродная плазма высоковольтный газовый разряд травление кремния |
Дата публикации : | 2011 |
Издательство : | Издательство Самарского государственного аэрокосмического университета |
Библиографическое описание : | Региональная научно-практическая конференция, посвящѐнная 50-летию первого полѐта человека в космос. Самара, 14-15 апреля 2011 г.: тезисы докладов. – Самара: Издательство Самарского государственного аэрокосмического университета, 2011. – c. 217-218 |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : | http://repo.ssau.ru/handle/Sbornik-tezisov-dokladov-regionalnoi-nauchnoprakticheskoi-konferencii-posvyashennoi-50letiu-pervogo-poleta-cheloveka-v-kosmos/Issledovanie-processov-travleniya-kremniya-vo-vneelektrodnoi-plazme-vysokovoltnogo-gazovogo-razryada-63384 |
ISBN : | 978-5-7883-0839-5 |
Другие идентификаторы : | Dspace\SGAU\20170403\63384 |
УДК: | 621.382 |
Располагается в коллекциях: | Сборник тезисов докладов региональной научно-практической конференции, посвященной 50-летию первого полета человека в космос |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
217-218.pdf | Основная статья | 285.13 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.