Отрывок: Перспективные материалы и технологии изготовления изделий ракетно- космической техники. Механика деформируемого твердого тела и проблемы прочности 92 При этом температура на поверхности незначительно превышает температуру плавления аморфной пленки из бария и кремния (рис 2), что позволяет не учитывать испарения атомов с поверхности при плотностях энергии ниже 5 000 Дж/м2. Рис. 2. Зависимость температуры на поверхности пленки от времени при разл...
Название : | РАСЧЕТ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОЙ СТРУКТУРЫ BASI2/SI ПРИ ОБРАБОТКЕ ЛАЗЕРНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ, ПЕРСПЕКТИВНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ |
Авторы/Редакторы : | Дубов, В. Л. Фомин, Д. В. |
Дата публикации : | 2017 |
Библиографическое описание : | Дубов В. Л. РАСЧЕТ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОЙ СТРУКТУРЫ BASI2/SI ПРИ ОБРАБОТКЕ ЛАЗЕРНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ, ПЕРСПЕКТИВНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ / В. Л. Дубов, Д. В. Фомин // Международная молодежная научная конференция «XIV Королевские чтения», посвященная 110-летию со дня рождения академика С. П. Королева, 75-летию КуАИ-СГАУ-СамГУ-Самарского университета и 60-летию со дня запуска первого искусственного спутника Земли. Т. 1. [электронный ресурс]: сб. тр./ М-во образования и науки Рос. Федерации; Самар. нац. исслед.ун-т им. акад. С. П. Королева − Самара: Изд-во Самар. ун-та, 2017. – С. 91-92. |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : | http://repo.ssau.ru/handle/Mezhdunarodnaya-molodezhnaya-nauchnaya-konferenciya-Korolevskie-chteniya/RASChET-PROCESSA-FORMIROVANIYa-TONKOPLENOChNOI-STRUKTURY-BASI2SI-PRI-OBRABOTKE-LAZERNYM-IZLUChENIEM-PERSPEKTIVNOGO-MATERIALA-DLYa-FOTOELEKTRIChESKIH-PREOBRAZOVATELEI-67831 |
Другие идентификаторы : | Dspace\SGAU\20180325\67831 |
УДК: | 539.216.2 |
Располагается в коллекциях: | Королевские чтения |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
1_2_9_Дубов.pdf | 1.96 MB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.