Отрывок: Перспективные материалы и технологии изготовления изделий ракетно- космической техники. Механика деформируемого твердого тела и проблемы прочности 92 При этом температура на поверхности незначительно превышает температуру плавления аморфной пленки из бария и кремния (рис 2), что позволяет не учитывать испарения атомов с поверхности при плотностях энергии ниже 5 000 Дж/м2. Рис. 2. Зависимость температуры на поверхности пленки от времени при разл...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorДубов, В. Л.-
dc.contributor.authorФомин, Д. В.-
dc.date.accessioned2018-04-04 15:46:39-
dc.date.available2018-04-04 15:46:39-
dc.date.issued2017-
dc.identifierDspace\SGAU\20180325\67831ru
dc.identifier.citationДубов В. Л. РАСЧЕТ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОЙ СТРУКТУРЫ BASI2/SI ПРИ ОБРАБОТКЕ ЛАЗЕРНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ, ПЕРСПЕКТИВНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙ / В. Л. Дубов, Д. В. Фомин // Международная молодежная научная конференция «XIV Королевские чтения», посвященная 110-летию со дня рождения академика С. П. Королева, 75-летию КуАИ-СГАУ-СамГУ-Самарского университета и 60-летию со дня запуска первого искусственного спутника Земли. Т. 1. [электронный ресурс]: сб. тр./ М-во образования и науки Рос. Федерации; Самар. нац. исслед.ун-т им. акад. С. П. Королева − Самара: Изд-во Самар. ун-та, 2017. – С. 91-92.ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/Mezhdunarodnaya-molodezhnaya-nauchnaya-konferenciya-Korolevskie-chteniya/RASChET-PROCESSA-FORMIROVANIYa-TONKOPLENOChNOI-STRUKTURY-BASI2SI-PRI-OBRABOTKE-LAZERNYM-IZLUChENIEM-PERSPEKTIVNOGO-MATERIALA-DLYa-FOTOELEKTRIChESKIH-PREOBRAZOVATELEI-67831-
dc.language.isorusru
dc.titleРАСЧЕТ ПРОЦЕССА ФОРМИРОВАНИЯ ТОНКОПЛЕНОЧНОЙ СТРУКТУРЫ BASI2/SI ПРИ ОБРАБОТКЕ ЛАЗЕРНЫМ ИЗЛУЧЕНИЕМ, ПЕРСПЕКТИВНОГО МАТЕРИАЛА ДЛЯ ФОТОЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПРЕОБРАЗОВАТЕЛЕЙru
dc.typeThesisru
dc.textpartПерспективные материалы и технологии изготовления изделий ракетно- космической техники. Механика деформируемого твердого тела и проблемы прочности 92 При этом температура на поверхности незначительно превышает температуру плавления аморфной пленки из бария и кремния (рис 2), что позволяет не учитывать испарения атомов с поверхности при плотностях энергии ниже 5 000 Дж/м2. Рис. 2. Зависимость температуры на поверхности пленки от времени при разл...-
dc.classindex.udc539.216.2-
Располагается в коллекциях: Королевские чтения

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
1_2_9_Дубов.pdf1.96 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.