Отрывок: Контроль геометрических размеров элементов после Нанесение слоя фото- резиста Сушка Экспо- нирование Прояв- ление Дубле- ние Трав- ление Контроль геометрических размеров Контроль геометрических размеров Снятие фото- резиста 9 проявления производят путем измерения линейных размеров на оптических микроскопах типа УИМ-21, УИМ-23 и проверяют на соответствие размерам, заложенным в топологии. После проявления проводя...
Название : | Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии |
Авторы/Редакторы : | Дмитриев В. Д. Меркулов А. И. Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева |
Дата публикации : | 2005 |
Издательство : | СГАУ |
Библиографическое описание : | Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии [Электронный ресурс] : метод. указания к лаб. работе по курсу "Технолог. процессы микроэлектроники" / Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; сост. В. Д. Дмитриев, А. И. Меркулов. - Самара : СГАУ, 2005. - on-line |
Аннотация : | Приведены теоретические сведения по технологии изготовления элементов тонкопленочных гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии. Рассмотрены вопросы повышения качества и точности фотолитографического процесса, приведен типовой технологический Используемые программы: Adobe Acrobat Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия) |
Другие идентификаторы : | RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:6/И 395-672153 |
Ключевые слова: | гибридные интегральные микросхемы (ГИМС) интегральные микросхемы тонкопленочные гибридные интегральные микросхемы фотолитография метод фотолитографии |
Располагается в коллекциях: | Методические издания |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Дмитриев В.Д. Изучение технологии 2005.pdf | 274.79 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.