Отрывок: Контроль геометрических размеров элементов после Нанесение слоя фото- резиста Сушка Экспо- нирование Прояв- ление Дубле- ние Трав- ление Контроль геометрических размеров Контроль геометрических размеров Снятие фото- резиста 9 проявления производят путем измерения линейных размеров на оптических микроскопах типа УИМ-21, УИМ-23 и проверяют на соответствие размерам, заложенным в топологии. После проявления проводя...
Полная запись метаданных
Поле DC | Значение | Язык |
---|---|---|
dc.contributor.author | Дмитриев В. Д. | ru |
dc.contributor.author | Меркулов А. И. | ru |
dc.contributor.author | Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева | ru |
dc.coverage.spatial | гибридные интегральные микросхемы (ГИМС) | ru |
dc.coverage.spatial | интегральные микросхемы | ru |
dc.coverage.spatial | тонкопленочные гибридные интегральные микросхемы | ru |
dc.coverage.spatial | фотолитография | ru |
dc.coverage.spatial | метод фотолитографии | ru |
dc.date.issued | 2005 | ru |
dc.identifier | RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:6/И 395-672153 | ru |
dc.identifier.citation | Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии [Электронный ресурс] : метод. указания к лаб. работе по курсу "Технолог. процессы микроэлектроники" / Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; сост. В. Д. Дмитриев, А. И. Меркулов. - Самара : СГАУ, 2005. - on-line | ru |
dc.description.abstract | Приведены теоретические сведения по технологии изготовления элементов тонкопленочных гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии. Рассмотрены вопросы повышения качества и точности фотолитографического процесса, приведен типовой технологический | ru |
dc.description.abstract | Используемые программы: Adobe Acrobat | ru |
dc.description.abstract | Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия) | ru |
dc.format.extent | Электрон. дан. (1 файл : 949 Кбайт) | ru |
dc.language.iso | rus | ru |
dc.publisher | СГАУ | ru |
dc.relation.isformatof | Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии [Текст] : метод. указания к лаб. работе по курсу "Т | ru |
dc.title | Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии | ru |
dc.type | Text | ru |
dc.subject.rugasnti | 47.33.31 | ru |
dc.subject.udc | 621.382.049.77(075) | ru |
dc.subject.udc | СГАУ:6(075) | ru |
dc.textpart | Контроль геометрических размеров элементов после Нанесение слоя фото- резиста Сушка Экспо- нирование Прояв- ление Дубле- ние Трав- ление Контроль геометрических размеров Контроль геометрических размеров Снятие фото- резиста 9 проявления производят путем измерения линейных размеров на оптических микроскопах типа УИМ-21, УИМ-23 и проверяют на соответствие размерам, заложенным в топологии. После проявления проводя... | - |
Располагается в коллекциях: | Методические издания |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
Дмитриев В.Д. Изучение технологии 2005.pdf | 274.79 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать базовое описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.