Отрывок: Контроль геометрических размеров элементов после Нанесение слоя фото- резиста Сушка Экспо- нирование Прояв- ление Дубле- ние Трав- ление Контроль геометрических размеров Контроль геометрических размеров Снятие фото- резиста 9 проявления производят путем измерения линейных размеров на оптических микроскопах типа УИМ-21, УИМ-23 и проверяют на соответствие размерам, заложенным в топологии. После проявления проводя...
Название : Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии
Авторы/Редакторы : Дмитриев В. Д.
Меркулов А. И.
Самарский государственный аэрокосмический университет им. С. П. Королева
Дата публикации : 2005
Издательство : СГАУ
Библиографическое описание : Изучение технологии изготовления элементов гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии [Электронный ресурс] : метод. указания к лаб. работе по курсу "Технолог. процессы микроэлектроники" / Самар. гос. аэрокосм. ун-т им. С. П. Королева ; сост. В. Д. Дмитриев, А. И. Меркулов. - Самара : СГАУ, 2005. - on-line
Аннотация : Приведены теоретические сведения по технологии изготовления элементов тонкопленочных гибридных интегральных микросхем методом фотолитографии. Рассмотрены вопросы повышения качества и точности фотолитографического процесса, приведен типовой технологический
Используемые программы: Adobe Acrobat
Труды сотрудников СГАУ (электрон. версия)
Другие идентификаторы : RU/НТБ СГАУ/WALL/СГАУ:6/И 395-672153
Ключевые слова: гибридные интегральные микросхемы (ГИМС)
интегральные микросхемы
тонкопленочные гибридные интегральные микросхемы
фотолитография
метод фотолитографии
Располагается в коллекциях: Методические издания

Файлы этого ресурса:
Файл Описание Размер Формат  
Дмитриев В.Д. Изучение технологии 2005.pdf274.79 kBAdobe PDFПросмотреть/Открыть
Показать полное описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.