Отрывок: Электроны с энергией < 10 keV поглощаются в очень узком слое расплава, причем максимум этого поглощения лежит на некоторой глубине ∂/2, равной 1.3551.15 10 U , (5) где ρ - плотность жидкого металла. Это означает, что концентрацию отрицательных частиц, поглощенных расплавом можно записать в следующем виде 2 0 0 , dN N x U x . Информ...
Название : | Исследование взаимодействия направленного ионно-электронного потока с поверхностью расплава никель-кремний |
Авторы/Редакторы : | Подлипнов, В.В. Колпаков, В.А. Струкель, Ю.С. |
Ключевые слова : | диффузия ионно-электронный поток частиц отжиг травление |
Дата публикации : | 2016 |
Издательство : | Издательство СГАУ |
Библиографическое описание : | Материалы Международной конференции и молодёжной школы «Информационные технологии и нанотехнологии», с. 78-83 |
Аннотация : | В работе проведен аналитические и экспериментальные исследования процессов ионно-электронного стимулирования процессов диффузии атомов кремния в расплаве никель-кремний. Предложены аналитические зависимости для описание механизма возникновения и дрейфа примесей на основе вакансионного механизма дрейфа. Экспериментально установлен процесс направленного характера движения вакансий. |
URI (Унифицированный идентификатор ресурса) : | http://repo.ssau.ru/handle/Informacionnye-tehnologii-i-nanotehnologii/Issledovanie-vzaimodeistviya-napravlennogo-ionnoelektronnogo-potoka-s-poverhnostu-rasplava-nikelkremnii-60621 |
ISBN : | 978-5-7883-1078-7 |
Другие идентификаторы : | Dspace\SGAU\20161208\60621 |
Располагается в коллекциях: | Информационные технологии и нанотехнологии |
Файлы этого ресурса:
Файл | Описание | Размер | Формат | |
---|---|---|---|---|
78-83.pdf | Основная статья | 637.84 kB | Adobe PDF | Просмотреть/Открыть |
Показать полное описание ресурса
Просмотр статистики
Поделиться:
Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.