Отрывок: Since x is a length of the crystal, and the value 0 x is the position of the crystallization front, then we can say that the process of complexation occurs near the crystallization front [240]. These calculated data are confirmed by early experimental studies of the initial stages of the defect formation process [12]. In these experiments, quenching of undoped FZ-Si single crystals with a diameter of 30 mm, grown in vacuum at different...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorTalanin V. I.ru
dc.contributor.authorTalanin I. E.ru
dc.coverage.spatialphoto convertersru
dc.coverage.spatialpersonal computersru
dc.coverage.spatialmicro- and nanoelectronicsru
dc.coverage.spatialmobile communication devicesru
dc.coverage.spatialдефектыru
dc.coverage.spatialsolid-state electronic devicesru
dc.coverage.spatialsemiconductor siliconru
dc.coverage.spatialфотоконвертерыru
dc.coverage.spatialустройства мобильной связиru
dc.coverage.spatialполупроводниковый кремнийru
dc.coverage.spatialтвердотельные электронные устройстваru
dc.coverage.spatialdefectsru
dc.coverage.spatialcrystal structureru
dc.coverage.spatialмикро- и наноэлектроникаru
dc.coverage.spatialкристаллическая структураru
dc.coverage.spatialперсональные компьютерыru
dc.creatorTalanin V. I., Talanin I. E.ru
dc.date.accessioned2023-12-08 11:15:33-
dc.date.available2023-12-08 11:15:33-
dc.date.issued2018ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\537748ru
dc.identifier.citationTalanin, V. I. The Formation of Structural Imperfections in Semiconductor Silicon / V. I. Talanin, I. E. Talanin. - [Б. м.] : Cambridge Scholars Publishing, 2018. - 1 file (11,1 Mb) (281 p.). - ISBN = 978-1-5275-0635-0. - Текст : электронныйru
dc.identifier.isbn978-1-5275-0635-0ru
dc.identifier.urihttp://repo.ssau.ru/handle/eBooks/The-Formation-of-Structural-Imperfections-in-Semiconductor-Silicon-107084-
dc.description.abstractИспользуемые программы Adobe Acrobatru
dc.description.abstractToday, it is difficult to imagine all spheres of human activity without personal computers, solid-state electronic devices, micro- and nanoelectronics, photoconverters, and mobile communication devices. The basic material of modern electronics and for all of these industries is semiconductor silicon. Its properties and applications are determined by defects in its crystal structure. However, until now, there has been no complete and reliable description of the creation and transformation of such a defective structure. This book solves this mystery through two different approaches to semiconductor silicon: the classical and the probabilistic.This book brings together, for the first time, all existing experimental and theoretical information on the internal structure of semiconductor silicon. It will appeal to a wide range of readers, from materials scientists and practical engineers to students.ru
dc.description.abstractСегодня трудно представить все сферы человеческой деятельности без персональных компьютеров, твердотельных электронных устройств, микро- и наноэлектроники, фотопреобразователей, устройств мобильной связи. Основным материалом современной электроники и всех этих отраслей промышленности является полупроводниковый кремний. Его свойства и области применения определяются дефектами его кристаллической структуры. Однако до сих пор не было полного и достоверного описания создания и преобразования такой дефектной структуры. В этой книге эта загадка раскрывается с помощью двух разных подходов к полупроводниковому кремнию: классического и вероятностного.В этой книге впервые собраны воедино все существующие экспериментальные и теоретические сведения о внутренней структуре полупроводникового кремния. Она понравится широкому кругу читателей, от материаловедов и инженеров-практиков до студентов.ru
dc.language.isoengru
dc.publisherCambridge Scholars Publishingru
dc.titleThe Formation of Structural Imperfections in Semiconductor Siliconru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.35ru
dc.subject.udc621.383ru
dc.textpartSince x is a length of the crystal, and the value 0 x is the position of the crystallization front, then we can say that the process of complexation occurs near the crystallization front [240]. These calculated data are confirmed by early experimental studies of the initial stages of the defect formation process [12]. In these experiments, quenching of undoped FZ-Si single crystals with a diameter of 30 mm, grown in vacuum at different...-
Располагается в коллекциях: eBooks

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
1986604.pdf11.36 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.