Отрывок: Разрешение ≤0,8 мкм в вакуумном контакте; ≤1,5 мкм при жестком контакте; ≤1,5 мкм при мягком кон...
Полная запись метаданных
Поле DC Значение Язык
dc.contributor.authorЗверев С. Д.ru
dc.contributor.authorАрхипов А. В.ru
dc.contributor.authorШишкина Д. А.ru
dc.contributor.authorМинистерство науки и высшего образования Российской Федерацииru
dc.contributor.authorСамарский национальный исследовательский университет им. С. П. Королева (Самарский университет)ru
dc.contributor.authorИнститут информатикиru
dc.contributor.authorматематики и электроникиru
dc.coverage.spatialизопланарная технологияru
dc.coverage.spatialинтегральные микросхемыru
dc.coverage.spatialмикроэлектронные изделияru
dc.coverage.spatialтермическая диффузияru
dc.coverage.spatialтранзистор шотткиru
dc.coverage.spatialфотолитографияru
dc.coverage.spatialэпитаксияru
dc.creatorЗверев С. Д.ru
dc.date.issued2021ru
dc.identifierRU\НТБ СГАУ\ВКР20210914160545ru
dc.identifier.citationЗверев, С. Д. Разработка участка производства микроэлектронного изделия типа КМ531ИР20 : вып. квалификац. работа по направлению подгот. 11.03.04 "Электроника и наноэлектроника" (уровень бакалавриата) / С. Д. Зверев ; рук. работы А. В. Архипов ; нормоконтролер Д. А. Шишкина ; М-во науки и высш. образования Рос. Федерации, Самар. нац. исслед. ун-т им. С. П. Королева (Самар. ун-т), Ин-т информатики, ма. - Самара, 2021. - on-lineru
dc.description.abstractОбъектом исследования является микросхема КМ531ИР20, котораяпредставляет собой четырехразрядный двухвходовый регистрЦель работы – разработка участка сборки микросхемы КМ531ИР20В результате работы был составлен маршрут технологическогопроцесса изготовления микросхемы КМ531ИР20. Выбраны конкретныеэлементы технологического процесса и определены режимы проведенияопераций. Также был подобран полный перечень необходимогооборудования и составлен маршрут перемещения по производственномуучастку.ru
dc.format.extentЭлектрон. дан. (1 файл : 0,0 Мб)ru
dc.titleРазработка участка производства микроэлектронного изделия типа КМ531ИР20ru
dc.typeTextru
dc.subject.rugasnti47.33.31ru
dc.subject.udc621.382.049.77ru
dc.textpartРазрешение ≤0,8 мкм в вакуумном контакте; ≤1,5 мкм при жестком контакте; ≤1,5 мкм при мягком кон...-
Располагается в коллекциях: Выпускные квалификационные работы

Файлы этого ресурса:
Файл Размер Формат  
Зверев_Семён_Денисович_Разработка_участка_производства_микроэлектронного.pdf1.38 MBAdobe PDFПросмотреть/Открыть  
Показать базовое описание ресурса Просмотр статистики
Поделиться:



Все ресурсы в архиве электронных ресурсов защищены авторским правом, все права сохранены.